第441章 写议案
“你提的光刻机光源方向，跟我们现有的课题完全不搭界。”
陈闯天回到沙发上坐下，双手交叉放在膝盖上。
“我要是把人手和精力往这边分，等於动了现有课题的根基。到时候上面问起来，交不出成果，我没法向科学院交代。”
马宇腾合上报告，放在茶几上。
“陈院士的意思是，需要单独立项？”
“对。”
陈闯天点头。
“必须单独立项，单独拨款。而且这个项目的规模不会小，光是晶体生长工艺的攻关，就需要购置一批新的设备。我们中心现有的经费，根本覆盖不了。”
马宇腾没有立刻回应。
这件事的棘手之处不在於技术，也不在於钱本身。
而在於体制內的科研经费审批流程。
从课题论证到立项评审，再到经费拨付，一套流程走下来，没有一两年別想见到钱。
而时间，恰恰是目前最缺的东西。
浸没式光刻机的窗口期就那么几年。
等阿斯麦彻底垄断高端光刻市场，再想在光源系统上搞自主研发，难度会呈几何级数上升。
他脑子里飞速转动，把几条线索串到了一起。
“陈院士，经费的问题，我有两个想法。”
陈闯天重新戴上眼镜，目光投过来。
“第一，魔都微电子那边，我已经谈过了。他们对kbbf光源方案有兴趣，正在组建预研小组。一旦预研报告出来，我会推动他们跟贵中心签订联合研发协议。前期的经费，可以从他们的研发预算里走一部分。”
陈闯天微微頷首。
“如果能形成联合攻关的模式，这確实能解决一部分燃眉之急。”
“但也只是一部分。”马宇腾接上他的话。
“光靠企业端的投入，撬不动这么大的工程。真正要把kbbf晶体从实验室推到產业化，必须有国家层面的支持。”
他停顿了一秒。
“三月三號，第十届全国协商四次会议就要召开了。”
“我是全国协商委员，受邀参加会议。”
马宇腾的语气平淡，像是在说一件微不足道的事。
“我打算在会上提交一份议案，核心內容是呼吁国家加大对半导体设备自主研发的投入。kbbf光源项目，会作为重点案例写进去。
“马总。”
陈闯天的称呼没变，但语气里多了一种东西。
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“你应该清楚，议案从提交到真正影响政策走向，中间要经过多少道关。”
“清楚。”
“也清楚这份议案一旦递上去，你就等於把自己架在了火上？半导体设备研发是个无底洞，投多少钱进去，短期內都看不到回报。到时候有人质疑你是借国家的钱给自己的企业铺路，你怎么应对？”
马宇腾笑了一下。
“陈院士，当我的雷霆工业作为一家私企进入到半导体產业的时候，就已经听到了无数的质疑。”
他站起身，走到窗前。
窗外是中关村灰濛濛的天际线，几栋写字楼的顶部消失在薄雾中。
“我的晶片工厂，用的是阿斯麦的光刻机、应用材料的蚀刻机、东京电子的涂胶显影机。从光源到晶圆传输，每一个核心环节，都捏在別人手里。”
他转过身，镜片后面的目光没有任何躲闪。
“今天他们愿意卖给我，是因为我们跟花旗国的关係还过得去。明天呢？后天呢？”
陈闯天没有说话。
他不需要回答这个问题。
在这栋楼里搞了几十年科研的人，比任何人都明白“受制於人”四个字的重量。
“所以这份议案，不是为了我自己，而是为了国內所有的晶片製造企业以及整个半导体產业的发展。”
马宇腾的声音不高，却充满了坚定的力量。
陈闯天站了起来。
他走到马宇腾面前，伸出手。
“你需要什么技术资料，我让团队整理。kbbf晶体的研究数据、生长工艺的瓶颈分析、未来可能的突破方向，我都可以提供。”
马宇腾握住那只布满老茧的手。
“还需要陈院士帮我把一下关。议案里涉及技术论证的部分，我怕外行话说多了，反而让人觉得不专业。”
陈闯天哼了一声，嘴角牵了一下。
“你倒是不客气。行，把初稿发给我，我帮你过一遍。”
两人又聊了近一个小时。
话题从kbbf晶体的技术细节，延伸到国內深紫外光学领域的人才储备和设备短板。
马宇腾把这些数据全部记在了脑子里。
它们將成为议案中最有说服力的弹药。
……
从陈闯天那里离开后的几天，马宇腾没有返回鹏城，而是一直待在京城。
房间的书桌上摊开了一台笔记本电脑，旁边堆著从陈闯天那里拿到的技术资料，以及他自己让雷霆半导体团队紧急搜集的国內半导体產业现状报告。
他在写议案。
屏幕上的文档已经改到了第七稿。
前六稿全被他自己否掉了。
第一稿太学术，满篇的技术术语，递上去没人看得懂。
第二稿太煽情，通篇都是“卡脖子”“受制於人”，读起来像一篇个人情感表达。
第三稿到第五稿在两者之间反覆摇摆，找不到平衡点。
议案这种东西，不是写给科学家看的，也不是写给企业家看的。
它的受眾是决策层，是那些每天要处理成百上千份文件的人。他们没有时间听你讲道理，也没有耐心看你抒情。
他们只看三样东西：问题有多严重，解决方案是否可行，不解决会怎样。
马宇腾刪掉了第六稿里所有的形容词和感嘆號，开始重写。
这一次，他从数据入手。
2005年，全球半导体设备市场规模约370亿美元。
花旗国企业占据了其中约45%的份额，脚盘国企业占据约30%，荷兰阿斯麦独占光刻机领域近六成的市场。
东大的份额是多少？
不到百分之一。
而且这不到百分之一，集中在封装测试等低端环节。
在光刻机、蚀刻机、薄膜沉积、离子注入这四大核心前道设备领域，东大企业的市场占有率四捨五入等於零。
他把这组数据放在议案的开头，没有加任何评论。
数字本身就是最好的论据。
陈闯天回到沙发上坐下，双手交叉放在膝盖上。
“我要是把人手和精力往这边分，等於动了现有课题的根基。到时候上面问起来，交不出成果，我没法向科学院交代。”
马宇腾合上报告，放在茶几上。
“陈院士的意思是，需要单独立项？”
“对。”
陈闯天点头。
“必须单独立项，单独拨款。而且这个项目的规模不会小，光是晶体生长工艺的攻关，就需要购置一批新的设备。我们中心现有的经费，根本覆盖不了。”
马宇腾没有立刻回应。
这件事的棘手之处不在於技术，也不在於钱本身。
而在於体制內的科研经费审批流程。
从课题论证到立项评审，再到经费拨付，一套流程走下来，没有一两年別想见到钱。
而时间，恰恰是目前最缺的东西。
浸没式光刻机的窗口期就那么几年。
等阿斯麦彻底垄断高端光刻市场，再想在光源系统上搞自主研发，难度会呈几何级数上升。
他脑子里飞速转动，把几条线索串到了一起。
“陈院士，经费的问题，我有两个想法。”
陈闯天重新戴上眼镜，目光投过来。
“第一，魔都微电子那边，我已经谈过了。他们对kbbf光源方案有兴趣，正在组建预研小组。一旦预研报告出来，我会推动他们跟贵中心签订联合研发协议。前期的经费，可以从他们的研发预算里走一部分。”
陈闯天微微頷首。
“如果能形成联合攻关的模式，这確实能解决一部分燃眉之急。”
“但也只是一部分。”马宇腾接上他的话。
“光靠企业端的投入，撬不动这么大的工程。真正要把kbbf晶体从实验室推到產业化，必须有国家层面的支持。”
他停顿了一秒。
“三月三號，第十届全国协商四次会议就要召开了。”
“我是全国协商委员，受邀参加会议。”
马宇腾的语气平淡，像是在说一件微不足道的事。
“我打算在会上提交一份议案，核心內容是呼吁国家加大对半导体设备自主研发的投入。kbbf光源项目，会作为重点案例写进去。
“马总。”
陈闯天的称呼没变，但语气里多了一种东西。
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“你应该清楚，议案从提交到真正影响政策走向，中间要经过多少道关。”
“清楚。”
“也清楚这份议案一旦递上去，你就等於把自己架在了火上？半导体设备研发是个无底洞，投多少钱进去，短期內都看不到回报。到时候有人质疑你是借国家的钱给自己的企业铺路，你怎么应对？”
马宇腾笑了一下。
“陈院士，当我的雷霆工业作为一家私企进入到半导体產业的时候，就已经听到了无数的质疑。”
他站起身，走到窗前。
窗外是中关村灰濛濛的天际线，几栋写字楼的顶部消失在薄雾中。
“我的晶片工厂，用的是阿斯麦的光刻机、应用材料的蚀刻机、东京电子的涂胶显影机。从光源到晶圆传输，每一个核心环节，都捏在別人手里。”
他转过身，镜片后面的目光没有任何躲闪。
“今天他们愿意卖给我，是因为我们跟花旗国的关係还过得去。明天呢？后天呢？”
陈闯天没有说话。
他不需要回答这个问题。
在这栋楼里搞了几十年科研的人，比任何人都明白“受制於人”四个字的重量。
“所以这份议案，不是为了我自己，而是为了国內所有的晶片製造企业以及整个半导体產业的发展。”
马宇腾的声音不高，却充满了坚定的力量。
陈闯天站了起来。
他走到马宇腾面前，伸出手。
“你需要什么技术资料，我让团队整理。kbbf晶体的研究数据、生长工艺的瓶颈分析、未来可能的突破方向，我都可以提供。”
马宇腾握住那只布满老茧的手。
“还需要陈院士帮我把一下关。议案里涉及技术论证的部分，我怕外行话说多了，反而让人觉得不专业。”
陈闯天哼了一声，嘴角牵了一下。
“你倒是不客气。行，把初稿发给我，我帮你过一遍。”
两人又聊了近一个小时。
话题从kbbf晶体的技术细节，延伸到国內深紫外光学领域的人才储备和设备短板。
马宇腾把这些数据全部记在了脑子里。
它们將成为议案中最有说服力的弹药。
……
从陈闯天那里离开后的几天，马宇腾没有返回鹏城，而是一直待在京城。
房间的书桌上摊开了一台笔记本电脑，旁边堆著从陈闯天那里拿到的技术资料，以及他自己让雷霆半导体团队紧急搜集的国內半导体產业现状报告。
他在写议案。
屏幕上的文档已经改到了第七稿。
前六稿全被他自己否掉了。
第一稿太学术，满篇的技术术语，递上去没人看得懂。
第二稿太煽情，通篇都是“卡脖子”“受制於人”，读起来像一篇个人情感表达。
第三稿到第五稿在两者之间反覆摇摆，找不到平衡点。
议案这种东西，不是写给科学家看的，也不是写给企业家看的。
它的受眾是决策层，是那些每天要处理成百上千份文件的人。他们没有时间听你讲道理，也没有耐心看你抒情。
他们只看三样东西：问题有多严重，解决方案是否可行，不解决会怎样。
马宇腾刪掉了第六稿里所有的形容词和感嘆號，开始重写。
这一次，他从数据入手。
2005年，全球半导体设备市场规模约370亿美元。
花旗国企业占据了其中约45%的份额，脚盘国企业占据约30%，荷兰阿斯麦独占光刻机领域近六成的市场。
东大的份额是多少？
不到百分之一。
而且这不到百分之一，集中在封装测试等低端环节。
在光刻机、蚀刻机、薄膜沉积、离子注入这四大核心前道设备领域，东大企业的市场占有率四捨五入等於零。
他把这组数据放在议案的开头，没有加任何评论。
数字本身就是最好的论据。